Ingenting verkar längre kunna stoppa Kinas framsteg inom avancerad halvledarteknologi. Varken amerikanska restriktioner eller bristen på ett lokalt ekosystem på den nivå som krävs.
Efter att gått i land med bedriften att producera 7 nanometers mikrohips i stora volymer utan att använda EUV-litografi (extrem ultraviolett litografi) fokuserar Kina nu på att nå nästa milstolpe - 5 nanometers mikrochips.
Enligt experter som intervjuats av branschsajten EETimes kommer Kina ha kapacitet att nå det målet på mindre än tre år. Kanske inom loppet av bara två år, vilket är det vanliga intervallet mellan mikrochipsgenerationer.
